사진- 에칭 공정

반도체 질문은 반도체 전문가 서재범쌤에게!
정확한 답변을 위해 아래 양식에 맞춰 질문글을 작성해주세요 :)

■ 전공

신소재공학 

■ 세부 질문 분야
(ex. 회로설계직무/양산기술직무/메모리소자/DRAM/MOSFET/포토공정/CVD 등)

포토공정-에칭공정 

■ 상세 질문 내용
(ex. 질문을 하게 된 강의명과 챕터명 or 도서의 페이지까지 구체적으로 적어주시면 더 좋아요! 일반 질문인 경우 강의명과 도서명은 적어주지 않아도 됩니다^^)

안녕하세요, 포토공정을 공부하는 중 궁금한점이 생겨서 질문드립니다. 

우선, PR을 도포하여 노광을 진행해 페터닝을 한다고 알고있습니다. 

여기서 궁금한 것이 

1)만약 positive PR를 도포한 상태의 웨이퍼 위에 회로가 그려진 마스크를 노광하여 빛에 의해 사라진 부분들과 PR이 살아있는 부분이 있는데 이게 마스크의 회로가 그려졌다고 하는건가요? 

2)근데 나중에 에칭을 진행하여 식각을 하고 결론적으로 PR을 제거하는데 그럼 마스크의 회로들은 어디에 그려지고 남이있는건가요? 

감사합니다!