dry etch polymer 이슈

반도체 질문은 반도체 전문가 서재범쌤에게!
정확한 답변을 위해 아래 양식에 맞춰 질문글을 작성해주세요 :)

■ 전공

전자공학과

■ 세부 질문 분야
(ex. 회로설계직무/양산기술직무/메모리소자/DRAM/MOSFET/포토공정/CVD 등)

MOSFET

■ 상세 질문 내용
(ex. 질문을 하게 된 강의명과 챕터명 or 도서의 페이지까지 구체적으로 적어주시면 더 좋아요! 일반 질문인 경우 강의명과 도서명은 적어주지 않아도 됩니다^^)

절연체로 많이 사용되고 있는 Al2O3, SiO2 에서 식각을 위해 할로겐 원소인 Cl2, F 계열을 사용하는 걸로 알고 있는데요.

여기서 Al2O3 위에 마스크 전극(Ti)이 일부 패턴 되어 있는 경우에, Al2O3 식각에 사용되는 원소가 전극과 결합하게 되면서 폴리머가 형성되는지 전극으로써 작동이 되지 않는다고 합니다. Al2O3 식각에 사용되는 Cl2 계열에 반응하지 않는 금속 물질이 있을까요??? 예를들면, Ni, Cr, Cu 등등…

SiO2의 경우에는 식각에 F 계열이 사용되게 되면서 Ti 는 TiF가 / Al는 AiF가 형성되어 전극으로써 동작되지 않아  Cr을 사용하기도 한다고 들었습니다.

결론으로는 Cl2에 반응하여 폴리머를 생성하지 않는 전극이 있는 지 (Ti, Al, Cr, Ni, Cu 중) 아니면 귀금속을 써야하는건지 궁금합니다.