플라즈마 발생 원인

반도체 질문은 반도체 전문가 서재범쌤에게!
정확한 답변을 위해 아래 양식에 맞춰 질문글을 작성해주세요 :)

■ 전공

전자

■ 세부 질문 분야
(ex. 회로설계직무/양산기술직무/메모리소자/DRAM/MOSFET/포토공정/CVD 등)

플라즈마

■ 상세 질문 내용
(ex. 질문을 하게 된 강의명과 챕터명 or 도서의 페이지까지 구체적으로 적어주시면 더 좋아요! 일반 질문인 경우 강의명과 도서명은 적어주지 않아도 됩니다^^)

플라즈마의 발생 원리를

진공 챔버에 Ar gasd와 자유전자를 넣고 전기장을 가하면,  E를 받아 가속화된 자유 전자와 중성원자(Ar gas)가 반응이 일어나 해리 현상이 일어나, 양이온, 음이온,Radical이 떨어져 나오는 데 이것을 플라즈마라고 부른다.

플라즈마를 유지의 핵심은 1차 전자가 중성 원자 궤도를 빠져나와 다른 원자와 충돌하면서 생긴 충돌 에너지에 의해 2차, 3차 전자가 높은 밀도로 생기는 것이다.

라고 이해해도 되는지 여쭤보고 싶습니다.