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high-k 물질 & 인턴지원 관련 질문

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반도체 질문은 반도체 전문가 서재범쌤에게!
정확한 답변을 위해 아래 양식에 맞춰 질문글을 작성해주세요 :)

■ 전공

전자공학

■ 세부 질문 분야
(ex. 회로설계직무/양산기술직무/메모리소자/DRAM/MOSFET/포토공정/CVD 등)

반도체 소자 & 자소서

■ 상세 질문 내용
(ex. 질문을 하게 된 강의명과 챕터명 or 도서의 페이지까지 구체적으로 적어주시면 더 좋아요! 일반 질문인 경우 강의명과 도서명은 적어주지 않아도 됩니다^^)

안녕하세요 서재범 선생님 방학때 빡공캠프를 통해 많은 도움을 받았습니다. 이번에 4학년 1학기 재학중이고 공정설계 직무 지원 희망하고 있습니다.

공부중 궁금한 내용과 이번 상반기 인턴을 지원해볼 예정인데 궁금한 점들이 있어 연락 드립니다.

1. MOSFET에서 gate dielectric으로 high-k 물질을 사용하게 되면 저전력 동작이 가능하다는 것을 알게 되었습니다. 누설전류억제하기 위해 high-k 물질을 사용하는 것은 이해가 되었는데 저전력 동작이 가능하다는 점이 이해가 안되서 질문 드립니다. 어떤 이유로 저전력 동작이 가능하게 되는 것인가요?

2. 아직 4학년 1학기를 진행하는 상태이기 때문에 이번 삼성전자 상반기 인턴으로 지원해볼 예정입니다.

이번학기에 반도체 공정 실습, 전자회로 설계, Zynq kit 실습 등을 진행 할 예정인데 이번학기에 진행중이거나 진행예정인 활동들을 자소서에 어필해도 괜찮은가요?

3. 인턴 자소서는 신입공채 자소서와 동일한 방향으로 작성하면 될까요?? 

 체험형 인턴으로 알고 있어 배우는 자세를 중점으로 해야할지 아니면 신입 공채와 같이 입사후 역량을 발휘하는 포부를 다지는 식으로 써야할지 잘 모르겠습니다.

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작성자 gnltjd159

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