학습일지 1일차

이번 강의에서는 반도체 면접의 전반적인 절차와 출제 경향, 그리고 면접 대비를 위한 핵심 기술 지식에 대해 학습하였습니다. 삼성전자와 SK하이닉스의 면접 방식 차이를 통해 기업별 준비 방향을 구체화할 수 있었으며, 특히 PT 면접에서의 반도체 공정기술 설명 역량의 중요성을 체감할 수 있었습니다. MOSCAP, MOSFET, SCE 관련 이슈와 해결방안에 대한 기초 이론 학습은 반도체 공정설계에 대한 이해도를 높이는 데 큰 도움이 되었습니다. 또한 포토 공정을 예시로 하여 세부 공정 단계, 핵심 파라미터, 설비 종류, RET 기술, 그리고 최신기술인 EUV 노광기술까지 다루면서 실무적 관점에서 공정을 설계하고 최적화하는 능력이 면접에서 중요하다는 점을 배울 수 있었습니다. 마지막으로 학습 계획 수립 시에는 단순 암기보다 구조적 흐름 파악과 반복 학습이 중요하며, 실제 면접에서 적용 가능한 언어로 정리하는 습관이 필요하다는 점도 인상 깊었습니다. 이번 강의를 통해 전공지식의 체계적 정리와 실전 적용력의 중요성을 깨달았으며, 향후 학습에도 큰 방향성을 얻을 수 있었습니다.