반도체 공정 설계 전문가로 거듭나기 위해 화학공학적 지식을 접목할 수 있는 체계적인 학습 플랜을 수립하며 엔지닉X원스펙과 함께 본격적인 공부의 첫발을 내디뎠습니다. 우선 반도체의 양대 축인 소자와 공정을 중심으로, MOSCAP의 기본 원리부터 MOSFET의 동작 메커니즘, 그리고 초미세 공정의 난제인 Short Channel Effect(SCE)와 같은 소자 특성을 깊이 있게 파고들어 소자 구조에 대한 물리적 이해도를 높이기로 하였습니다. 특히 전공 역량을 극대화할 수 있는 포토 공정에 주목하여, 기초적인 공정 정의와 순서를 익히는 것부터 시작해 공정 변수인 파라미터 제어, 설비의 광학적 원리, 나아가 해상도를 높이는 RET 기술과 최신 EUV 기술의 도입 목적까지 그 계보를 완벽히 숙달하는 것을 최우선 목표로 설정하였습니다. 또한 전공 과정에서 접했던 SEM/TEM 등의 분석 장비가 실제 반도체 나노 패턴 계측에 어떻게 적용되는지 실무적 관점에서 재해석하고, 웨이퍼 상의 렌즈 설계와 DUV 광원의 굴절률 등 설비의 물리적 메커니즘이 공정 결과에 미치는 영향을 심도 있게 탐구할 예정입니다. 이번 계획 수립을 통해 단순한 이론 암기를 넘어 8대 공정 전반의 상관관계를 통찰하고 공정 설계 마진을 최적화할 수 있는 반도체 공정기술 지식 체계를 구축해 나가도록 하겠습니다.