반도체 질문은 반도체 전문가 서재범쌤에게!
정확한 답변을 위해 아래 양식에 맞춰 질문글을 작성해주세요 :)

■ 전공

재료

■ 세부 질문 분야
(ex. 회로설계직무/양산기술직무/메모리소자/DRAM/MOSFET/포토공정/CVD 등)

포토공정

■ 상세 질문 내용
(ex. 질문을 하게 된 강의명과 챕터명 or 도서의 페이지까지 구체적으로 적어주시면 더 좋아요! 일반 질문인 경우 강의명과 도서명은 적어주지 않아도 됩니다^^)

교재 221에서 223에 해당하는 포토공정 pr관련 질문드립니다

1) PEB가 DUV용 PR에서는 주로 산 발생 촉진이 주된 목적인거 같은데, standing effect 완화 목적도 있나요? 촉매반응을 통해 연속적으로 산을 생성하면서 random하게 일어나서 standing effect이 UV보다 덜할거 같은데, 어떤가요?

2) 위의 질문처럼 열처리 과정에서의 연쇄적 산 발생이 랜덤하게 일어나면 노광부와 비노광부의 경계에서도 산발생이 일어날거 같은데, 이부분 영향은 작은가요? 시간이나 온도를 컨트롤해서 조건을 잡는건가요?